Titanyum hedef bloğu

Titanyum hedef bloğunun katılarındaki safsızlıklar ve gözeneklerdeki oksijen ve nem, biriken filmlerde kontaminasyonun ana kaynaklarıdır. Farklı uygulamalar için hedeflerin farklı safsızlık içeriği için farklı gereksinimleri vardır. Örneğin, yarı iletken endüstrisi için saf alüminyum ve alüminyum alaşım hedefleri, alkali metal içeriği ve radyoaktif eleman içeriği için özel gereksinimlere sahiptir.

Hedef katılardaki gözenekleri azaltmak ve püskürtülen filmlerin performansını artırmak için, hedefin genellikle yüksek bir yoğunluğa sahip olması gerekir. Hedefin yoğunluğu sadece püskürtme hızını etkilemekle kalmaz, aynı zamanda filmin elektrik ve optik özelliklerini de etkiler. Hedef yoğunluk ne kadar yüksek olursa, filmin performansı o kadar iyi olur. Ek olarak, hedefin yoğunluğunu ve gücünü arttırmak, hedefin püskürtme işleminin termal gerilmelerine daha iyi dayanmasını sağlar. Yoğunluk aynı zamanda hedef malzeme, tane boyutu ve tane boyutu dağılımının temel performans göstergelerinden biridir.
Genellikle hedef polikristalin yapıdır, tane boyutu mikrondan milimetreye olabilir. Aynı tür hedef için, ince taneli hedefin püskürtme oranı, kaba taneli hedefinkinden daha hızlıdır; ve hedefin püskürtülmesiyle tahıl büyüklüğünde küçük bir fark (düzgün dağılım) ile biriken filmin kalınlık dağılımı daha düzgündür.